质量的措施

质量政策（彻底贯彻 “客户满意至上″）

本公司提供符合顾客需求的半导体产品，将社会贡献视为最重要的课题，努力维持并提升产品的质量。
１．使本公司的业务活动与质量管理系统适当地融合，透过全体员工的参与，持续改善其融合的效果。
２．符合顾客需求以及相关法规、社会规范，提供可以安心使用的产品。
３．为了满足顾客需求，寻求买方的理解并维持互惠互利的关系，同时提高创造双方价值的能力。
４．设定质量目标，藉由确实执行ＰＤＣＡ循环，促使其目标之达成，使质量持续改善。

体系认证信息

Phenitec在外部质量认证方面，已取得了ISO9001。此外，还在2018年取得了管控要求更为严格的车载IATF16949认证。

规格	ISO9001:2015查看登录证
事业所	冈山第1工厂 / 冈山第2工厂 / 鹿儿岛工厂 / 营业本部 京都营业部
登录证数字	JQA-1829
登录证数字	1997年8月1日
登录机关/td>	日本质量保证机构 (JQA)
登录登录动词	分立半导体器件和半导体集成电路晶片的设计/开发和制造
Expiry date	September 30, 2024

规格	IATF 16949:2016查看登录证
事业所	冈山第1工厂	鹿儿岛工厂
登录证数字	JQA-AU0036-1	JQA-AU0036-3
初回登录	2014年12月12日	2020年11月20日
登录机关	日本质量保证机构 (JQA)
登录登录动词	分立半导体器件和半导体集成电路晶片的设计/开发和制造
有条关节	2024年9月30日	2024年9月30日

质量保证体制

Phenitec通过40年以上的半导体生产制造而积蓄了丰富的产品设计、制程技术及生产方面的知识和经验，我们驾驭着这些宝贵的知识和经验，以物有所值的价格和合理的产品交期向客户提供品质卓越的优良产品。

解析设备总览
Metaloscope（w/photographic device）	金属显微镜
FE SEM	电场放射电子显微镜
STEM	扫描透射电子显微镜
FIB	聚離子束断面观察设备
Optical Beam Induced Resistance Change	OBIRCH解析设备
Photo Emission Microsopy	放射显微镜
TXRF	全反射荧光X射线
ICP-MS	ICP 质量分析